QPREP精密ポリッシング懸濁液は、最も要求の厳しいポリッシング要件に適したポリッシング製品です。この
このプロセスでは、コロイド状二酸化ケイ素または酸化アルミニウムを用いて化学的機械的研磨が行われます。コロイド懸濁液は不均一な混合物であり、微粒子は液体中に均一に分散し、沈殿しません。コロイド状二酸化ケイ素
コロイド状二酸化ケイ素を使用した精密ポリッシング懸濁液は、この安定性を利用して効果的で穏やかなポリッシングを行い、表面品質を向上させ、一貫して高品質な結果をもたらします。
高品質な結果をもたらします。
長所
- 最高の表面品質
- すべての変形を振動研磨で除去
- 0.1μm～0.05μmの条痕を研磨/除去
推奨用途
- 詳細な微細構造分析
- 非常に軟質または非常に硬質な延性材料
微粒子懸濁液
微粒子懸濁液 (AI2O3)
EPOSAL
- 結晶化せずに供給
- 鉄材料、ポリマー、複合材料、PCB（ポリ塩化ビフェニル）、岩石、鉱物に
- 対応粒径： 0,06 µm
EPOSIL F / EPOSIL Non dry / EPOSIL M
コロイド状シリカ
- 研磨用に希釈エッチング液を添加可能
- 鉄材料および非鉄材料、セラミックに
- アルミニウム（Al）、銅（Cu）、チタン（Ti）、はんだ接合などの軟質材料向け
- 対応粒径： EPOSIL F: 0,1 µm / EPOSIL Non Dry: 0,05 µm / EPOSIL M: 0,06 µm
EPOSIL M11
コロイド状シリカ
- チタン、ニッケル、スズ、およびその合金向け
- 対応粒径： 0,06 µm
非水性の微粒子懸濁液
ETOSIL E
- マグネシウム、亜鉛などに
- 対応粒径： 0,06 µm
アルミナ懸濁液、焼成
濃縮水、希釈用、3～5容量部の水に希釈
- 対応粒径： 0,3 / 0,6 / 1 µm
QATMがお届けする究極の研磨用機器
加工条件（知識、慎重な加工、消耗品と機器の正しい選択）を充足することで、信頼性、安全性、効率性の高い研磨が実現します。
技術情報
当社のナレッジベースでは、これ以外の手順もご紹介しています。詳細は当該ページをご覧ください。
ポリッシングに関する当社ナレッジベースからの参考記事の一例：
- 3ステップの金属組織学的ポリッシング
- 金属組織分析のためのダイヤモンドポリッシング
- 金属組織分析のための酸化物研磨
- 金属組織学分析のための研磨とポリッシングのヒント
Ultrafine polishing suspension machines for metallographic samples, and contact
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